射頻濺鍍機 (RF sputter)

鍍膜的應用相當廣泛，在許多半導體製程、光學玻璃方面等等都使用到濺鍍製程。射頻濺鍍機是利用物理方法的鍍薄膜儀器。其內部運作基本配置於一真空腔體，具有濺鍍激發槍產生電漿。鍍膜原理是在真空腔體中產生高能電漿，利用電漿衝撞靶材(欲鍍物:是金屬、金屬氧化物，或無機非金屬物)，將靶材原子撞擊出表面，使靶材原子附著沉積在基板上。在靶材與基板之間導入電極，靶材為陰極，基板為陽極，而電漿中的離子帶正電(一般使用氬氣使其激發為帶正電電漿)，這些正電離子會往陰極移動，撞擊表面，而被撞出的靶材原子中帶負電的原子往陽極基板移動，最後沉積在表層。

薄膜製成可控制腔體中的氣體流量，通入其他氣體，基板加熱溫度來改變其製程因素。使用濺鍍方法的薄膜相較其他物理沉積薄膜製成(如蒸鍍等等..)具有較快速的鍍率、可精確控制製程的參數，其成分控制較佳，能選用的鍍附材料較廣。而相較於一般化學沉積方法(CVD)，使用濺鍍的薄膜膜厚較均勻緻密。

玻璃軟化黏度測試儀

藉由在玻璃棒中間加載一定負荷重量，測試試樣對所加力矩的抵抗能力，由精密負荷傳感器顯示出試樣的黏度值。黏度和溫度之間有密切的關係，溫度越高，所得的黏度會越低，本設備可測試在較低溫下的黏度。

耐候試驗機

耐候試驗機是可以控制測試區內部的溫濕度環境以及雨淋動作，模擬不同的照射環境下對材料的傷害以及老化情形。